一個國際團隊設(shè)計了一種硅分子隔離器，該隔離器有望超過晶體管的最大尺寸，電纜電纜并制造出更緊湊，功能更強大的計算機芯片。

　　自美國，中國和丹麥的研究人員團隊合成了第一個納米尺寸的絕緣硅分子，該分子可以有效地防止由于移除晶體管而產(chǎn)生的泄漏電流。究人員說，電流泄漏的原因是“量子隧穿隧道效應(yīng)”，該效應(yīng)將諸如電子之類的微觀粒子推過無法通過的“壁”。

　　
　　究人員認為真空屏蔽可以在晶體管之間隔離，但是當(dāng)兩個金屬電極接近一定程度時，仍然會發(fā)生電流泄漏。
　　項新的研究表明，硅分子絕緣子比相同尺寸的真空屏具有更好的絕緣性。
　　究人員之一，美國哥倫比亞大學(xué)的李海星說，這種設(shè)計的獨特之處在于位于兩個電極之間的硅分子對電子傳輸產(chǎn)生量子破壞性干擾，從而確保絕緣。海興說：“如果將電子視為波，則波谷和波谷的疊加會產(chǎn)生相消干涉，這意味著電子傳輸很弱。
　　究人員聲稱，使用硅的絕緣子與硅絕緣。
　　業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，易于投入生產(chǎn)。

　　

　　
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